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在安庆市申请集成电路布图专利申请周期需要多久呢?流程是怎么样的?需要多少费用呢?
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集成电路布图设计申请流程
一、申请:向国家知识产权行政部门提交申请文件;
二、初审;
三、登记并公告;
四、对驳回申请的复审;
五、登记的撤销。
集成电路布图设计实质上是一种图形设计,但它并非是工业品外观设计,不能适用专利法保护。因为,从专利法的保护对象来看,针对产品、方法或其改进所提出的新的技术方案要求具有创造性、新颖性和实用性。这一点对集成电路布图设计而言往往难以做到。从专利的的取得程序,专利申请审批的时间过长,成本较高,不利于技术的推广和应用。
集成电路布图设计虽然在形态上是一种图形设计,但它既不是一定思想的表达形式,也不具备艺术性,因而不在作品之列,不能采用著作权法加以保护。而且集成电路布图设计更新换代较快,若用著作权法来保护布图设计,则会因著作权的保护期过长而不利于集成电路业的发展。
由于现有专利法、著作权法对集成电路布图设计无法给予有效的保护,世界许多国家就通过单行立法,确认布图设计的专有权,即给予其他知识产权保护。美国是较先对布图设计进行立法保护的国家,随后,日本、瑞典、英国、德国等国也相继制订了自己的布图设计法。
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